超低溫恒溫槽（-60℃～90℃）應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用，可以提供熱冷受控，溫度均勻恒定的液體環(huán)境，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度達到±0.1℃。

低溫恒溫循環(huán)槽（-20℃～90℃），MD20-12，容積12L，控溫范圍-20℃～90℃，高至溫度100℃，作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)使用.

低溫恒溫循環(huán)槽（-20℃～90℃）可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用。

低溫恒溫循環(huán)槽MD10-8 低溫恒溫槽提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度±0.05℃。

低溫恒溫水槽-5℃～90℃，MD5-30提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度±0.05℃。

MD30-30加熱制冷浴槽（-30℃～90℃），容積30L，控溫范圍-30℃～90℃，用于石油化工、制藥及半導體工業(yè)等領域低溫測量與檢定，樣品保存等浸入式實驗或外循環(huán)應用

MD5-12低溫恒溫循環(huán)槽（-5℃～90℃）提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度±0.05℃。